草圖階段設(shè)置

1、 全局開關(guān)面板：關(guān)閉3D默認(rèn)的燈光，關(guān)閉“反射/折射”和“光滑效果”

2、 圖像采樣器：“固定比率”，值為1。

3、 關(guān)閉“抗鋸齒過濾器”。

4、發(fā)光貼圖：預(yù)設(shè)[非常低]，模型細(xì)分30，插補(bǔ)采樣10

5、 燈光緩沖：細(xì)分100

6、 RQMC采樣器：適應(yīng)數(shù)量0.95 噪波閾值：0.5 最小采樣值8 全局細(xì)分倍增器：0.1

7、燈光和材質(zhì)的細(xì)分值都降低5—8

出圖階段設(shè)置

1、全局開關(guān)面板：打開“反射/折射”和“光滑效果”

2、圖像采樣器：“自適應(yīng)準(zhǔn)蒙特卡洛”。

3、打開“抗鋸齒過濾器”，選擇“Mitchell-Netravali”

4、發(fā)光貼圖：預(yù)設(shè)[中]，模型細(xì)分50，插補(bǔ)采樣30

5、-燈光緩沖：細(xì)分1200

6、RQMC采樣器：適應(yīng)數(shù)量0.8 噪波閾值：0.005 最小采樣15 全局細(xì)分倍增器：2

7、燈光和材質(zhì)的細(xì)分值可增加20—50

同樣的圖用這些參數(shù)用時(shí)11分6秒5

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